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2025年美国 SPIE光掩膜技术与极紫外光刻技术研讨会(SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY )

2025年美国SPIE光掩膜技术与极紫外光刻技术研讨会将于2025年9月21日至25日在美国加利福尼亚州蒙特雷的蒙特雷会议中心(Monterey Conference Center)举办。这是一场备受瞩目的展会和会议,专注于光掩膜技术和极紫外光刻技术领域,是光掩膜行业组件、软件和制造设备的买家及关键供应商的重要交流平台。展会将展示最新的光掩膜技术和极紫外光刻技术相关产品,涵盖组件、软件和制造设备等;会议部分将汇聚行业专家、学者和企业代表,共同探讨行业最新趋势、技术突破和未来发展方向,同时提供丰富的学术报告和研讨会,分享最新的研究成果和实践经验。此外,活动还为参与者提供了与行业领先企业建立联系、拓展商业合作的机会。蒙特雷会议中心是一个现代化的会议场所,设施完善,交通便利,为与会者提供了舒适的会议环境和便利的服务。详情

国际

访问权限

专业观众

能否现场销售

时间

  • 2025.09.21-09.25
  • 09.2026
  • 首届时间: /
  • 展会周期: 每年一届

展馆

  • Monterey Conference Center
  • 展馆地区: 美国-蒙特雷市
  • 开馆时间: /

行业

  • 行业领域
  • 电子及数码(产品,机械),光学,光学设备,激光
  • 主要产品组
  • 电子设计与元件 光电子学 微米与纳米技术 工程师科学 - 研究与开发
2025年美国 SPIE光掩膜技术与极紫外光刻技术研讨会(SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY )
2025年美国SPIE光掩膜技术与极紫外光刻技术研讨会将于2025年9月21日至25日在美国加利福尼亚州蒙特雷的蒙特雷会议中心(Monterey Conference Center)举办。这是一场备受瞩目的展会和会议,专注于光掩膜技术和极紫外光刻技术领域,是光掩膜行业组件、软件和制造设备的买家及关键供应商的重要交流平台。展会将展示最新的光掩膜技术和极紫外光刻技术相关产品,涵盖组件、软件和制造设备等;会议部分将汇聚行业专家、学者和企业代表,共同探讨行业最新趋势、技术突破和未来发展方向,同时提供丰富的学术报告和研讨会,分享最新的研究成果和实践经验。此外,活动还为参与者提供了与行业领先企业建立联系、拓展商业合作的机会。蒙特雷会议中心是一个现代化的会议场所,设施完善,交通便利,为与会者提供了舒适的会议环境和便利的服务。
Monterey Conference Center